プロセス機器
Process Equipment
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1. PAACポンプ：自吸式竪型遠心ポンプ
定格容量 8m³/h Type（H≒30m @6,000rpm）、50m³/h Type（H ≒40m @3,000rpm）の2種類があります。
本体（電動機以外）は遮へいスラブの下に設置されインペラを含む内部構造は遮へいプラグごとMERCによる遠隔交換が可能です。
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2. Globe Valve：ベローズシール式玉型仕切弁、制御弁
のど径＝25D、40D、80D、3種の手動またはエアシリンダー駆動型弁。軸封はSUS製ベローズにより二重シールされた無漏洩弁であり、最高運転圧力10bar、運転温度5～100℃の放射性流体（硝酸雰囲気）を扱う事ができます。
本体（駆動装置以外）は遮へいスラブの下に設置され弁座・弁体を含む内部機構は遮へいプラグごとMERCによる遠隔交換が可能です。
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MSU
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3. Pulsation Valve：ベローズシール式仕切弁
貯槽内部流体攪拌用のパルセーターに圧空を断続供給する為に開発されたエアシリンダー駆動型仕切弁。軸封はシール及びSUS製ベローズにより二重シールされた無漏洩弁であり、最高運転圧力5bar、運転温度～60℃で硝酸、アルカリ雰囲気の放射性気体を扱う事ができます。
本体（駆動装置以外）は遮へいスラブの下に設置され弁座・弁体を含む内部機構は遮へいプラグごとMERCによる遠隔交換が可能です。
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4. Sampling Bench：自動試料採取装置
PLC制御による自動試料採取装置であり、プログラム運転により24時間連続でジャグによる5～8ccの放射性液体の自動採取、分析設備への自動気送が可能です。
サイズは約1m径×2.5m高であり1台のベンチで最大24箇所の異なる貯槽等から40回／日の頻度で試料採取が可能です。
装置内汚染のリスクに対しては遠隔による除染洗浄が可能となっています。
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タンク底部
サンプリング配管群
上部駆動機構
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5. Stirrer for Mixer Settler：ミキサーセトラー用攪拌器
U、Puの化学抽出用ミキサーセトラーの溶液攪拌、ポンピング用に用いられます。
用途に応じて3種類のタイプが用意されており、性能要求によりタービン部の設計は可変となっています。
故障時の交換は、プラグごとMERCによる遠隔で行えるものと、ビニールバッグ等を用いて直接行うものとがあります。
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Type1 
Type2
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6. Electric Probe：電極式界面計
1又は4本の電極棒を用いて液体との接触による導電率を計測し、ミキサーセトラーの水／有機溶媒間の境界位置を計測する界面計です。
故障時の交換は、プラグごとMERCによる遠隔で行えるものと、ビニールバッグ等を用いて直接行うものとがあります。
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Type2
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7. VCV5 Valve：ダイヤフラムシール式スプリング三方弁
空気圧制御による三方切替弁であり、主として真空系統を利用したプロセス溶液のサイフォン移送に使用されます。
動力式駆動装置は使用しないためメンテナンスフリーでの連続使用が可能です。
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8. V2S Valve：ベローズシール小型三方弁
小型の空気圧制御式三方切替弁であり、主として真空系統を利用したミキサーセトラーの液面制御に用いられます。
動力式駆動装置は使用しないためメンテナンスフリーでの連続使用が可能です。
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9. Filter Unit：高性能排気フィルター
円筒形のろ過 エレメントを使用する高性能微粒子フィルターであり 出入口ダンパが組み込まれたケーシング内にエレメン卜を収納します。
主として放射性物質を内包する塔槽類オフガス系、または高汚染区域のセル排気系のろ過に使用されます。
500Nm³/h、3000Nm³/h、4000Nm³/hの3種類があり標準DOP試験による捕集効率は99.97%以上（JISZ 4812（'95））を達成しています。
エレメン卜の交換はMERC又はビニールバックが用いられます。
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500Nm³/h
ケーシング
500Nm³/h
エレメント
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10. Vacuum Filter：真空フィルター
特殊焼結金属をエレメン卜に利用した小型の空気ろ過フィルターであり、主としてプロセスの真空排気系統に用いられます。
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ケーシングユニット 
エレメント
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11. Steam Jet Pump：スチームジェットポンプ
約10kg/cm²の駆動用蒸気をジェットノズルよりデフューザ部へ噴出することによる負圧を利用して放射性溶液の移送に用いる移送装置であり、主としてセルの壁／床に設置されます。
0.5～20m³/hの範囲で各種容量があり、吐出揚程は8～40mが可能です。
ノズル故障時にはリボルビング型MERCを用いてセルの外部からノズル部のみの遠隔交換が可能となっています。
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スチームジェットポンプノズル
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12. Alpha Monitor：アルファモニター
プロセス溶液中の低濃度アルファ核種を連続で濃度監視する核計装装置です。
プロセス溶液を下部タンク内に滞留させ、回転ドラム表面の液膜をシンチレーション力ウンターで計測・演算し必要なデータを出力します。
装置内に組み込まれた校正線源により定常的なデータ校正が可能です。（計測レンジ＝Pu :0.0005～10g/l）
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測定部機構
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13. Gamma Monitor：ガンマモニター
中低レベルプロセス溶液のガンマ線量を連続計測するガンマ線計測装置です。（計測レンジ＝0.02～1000mCi/l）
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上部機構 
MSU
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14. U/Pu Monitor：ウランプルトニウムモニター
配管を介して装置内に導入されたプロセス溶液中の、全核物質濃度を連続的に監視する核計装装置です。
Am線源を用いて溶液を透過した線量を計測する事で液中濃度を算出します。（計測レンジ＝50～500g/l）
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測定部機構
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